中国想自力打造光刻机，ASML华裔工程师的看法，令人担忧…

 来源 | 太初之道

      美国对华为实施出口管制，凸显中国半导体产业技术和制造设备的窘境。华为创办人任正非日前造访中国科学院，传出华为将与中国科学院合作，并能在先进的极紫外光刻（EUV）技术上有所突破。但1名任职荷兰艾斯摩尔（ASML）、且投入EUV开发的华裔工程师近日发文表示，这简直是「天方夜谭」！

      这名工程师在网路发文指出：「先别提把极紫外光刻机EUV给造出来，就是把EUV给用好都是一件无比复杂的事情，台积电算是我们的客户，我很佩服台积电的工程师或者说他们整个的体系。他们对光刻机的使用技巧达到了某种让人钦佩的高度。」

该工程师坦言，中国若有这个钱重新在国内建立起1家像台积电一样的公司，还不如用这个钱直接收编台积电；从成本上来看，后者很可能更加便宜。台积电这种巨无霸如果不是遇到芯片制造的重大革命，或者其他危机，中国企业很难超越！

      该工程师说，所以中国要造新型EUV光刻机并不是中国单挑美国，而是中国要单挑外国，因高性能的滤光片，对极端紫外线高反射率的镀膜，耐用的商业雷射机……没有一个是中国自己能够造出来的，没有这些基础器件，而有关国家又对中国封锁，谈造EUV光刻机就是天方夜谭！

      他表示，造光刻机跟造航母不一样，航母并没有在全球的产业链裡面，而光刻机是全球产业链整合出来的产品，针对中国的技术封锁如果没有松动，需要重复做的事情太多，绝非十年二十年，靠中国单打独斗能成的；如果有人还觉得市场、钱、政策能够大跃进式地造出光刻机，那就是绝对错误的认识。

      该工程师说，如果技术不革新，中国想在EUV上后来居上几乎做不到。至于台积电，它是能够熟练使用EUV的厂商，如果中国半导体代工企业都没有EUV可用，在10年内、20年内、甚至100年内都很难超越台积电。

延伸阅读：

来源 | 芯智讯

      对于中国光刻机未来的发展，近日一位自称是ASML华裔工程师的网友在网上发表了自己的看法。以下为原文：

大陆的半导体代工企业大概什么时候能超过台积电？这个问题是说十年内，二十年内还是一百年内？

我目前就在ASML公司工作，做的就是最新一代的EUV光刻机。这么说吧，咱们先别说把（EUV）光刻机给造出来，就是把（EUV）光刻机给用好都是一件无比复杂的事情。

      台积电算是我们的客户，我很佩服台积电的工程师或者说他们整个的体系。他们对光刻机的使用达到了某种让人钦佩的高度，多的东西涉及到保密不能谈。

      打个比方，如果台积电是美国海军拥有十艘十万吨级核动力航母，中国芯片制造商大概就是中国海军，而且是在辽宁舰未拖进港时期的中国海军。你说中国会不会有朝一日造出十万吨级别的核动力航母？这个当然有可能，但是什么时候能造出来，这个真的不好说，需要天时地利人和都具备了才行。这些条件包括或者可能包括：

      国家要下大决心，要做好十几年甚至二十年一直亏钱的准备；外部技术封锁要有些松动（包括各种光学器件、光刻机、光刻胶等等……）；要有一流人才愿意给中国效力（比如钱学森这种大牛）；需要大量从业的工程师来进行过渡；三星、Intel，台积电的某一家要出一个大问题，倒闭或者破产，这样能让出市场份额，给予中国公司发展机会；新技术恰好在国家大力投入的时候兴起（实现弯道超车）；

      讲句心里话，有这个钱重新在中国建立起一家台积电一样的公司，还不如用这个钱直接收编台积电。从成本上来看，后者很可能更加便宜。

要我说，台积电这种巨无霸如果不是遇到芯片制造的重大革命，或者其他危机，中国企业很难超越！我总有一种朦朦胧胧没有根据的感觉，我觉得未来的芯片很可能不是硅片，而是碳，是石墨烯的某种应用。所以，如果从大的笼统的方面来说，中国用新的芯片制造技术超越台积电还是可能的。

      大家可能对所谓芯片制造不太了解。这么说吧，如果欧洲一夜之间蒸发了，美国想要重新造出性能相似的光刻机来，至少需要五年！所以中国要造新型EUV光刻机并不是中国单挑美国，而是中国单挑外国！别的不说，高性能的滤光片，对极端紫外线高反射率的镀膜，耐用的商业激光器……没有一个是中国自己能够造出来的！更确切的说，不是中国造不出来，而是美国有很多也造不出来！镀膜、滤光片、半反半投镜……这些技术低性能也就罢了，高性能的产品都是一年一年试出来的，欧洲起步早，试验的多就是世界最强！

      中国起步晚，短时间内就是造不出来。因为，没有这些基础器件，谈造EUV光刻机就是天方夜谭！所以造光刻机跟造航母不一样，航母并没有在全球的产业链里面。而光刻机是全球产业链整合出来的产品。针对中国的技术封锁如果没有松动，需要重复做的事情太多，绝非十年二十年，靠中国单打独斗能成的。假如大家还觉得市场、钱、政策能够大跃进式地造出光刻机，那就是绝对错误的认识。我觉得吧，承认某些东西自己确实不行，努力也不行，需要外国帮助，也不是什么坏事。盲目乐观才会断送自己的前程。

      当然EUV作为新一代的技术能够实现7nm、5nm的光刻，虽然更加先进，但是如果真的台积电被迫不能给中国代工，我们依然可以使用老一点的技术。使用老一点的技术也足以保证国内正常的需要。这也是为什么国家在这个领域没有那么大的动力和决心的一个原因。

      总之呢，EUV光刻机可以看作是美元霸权的衍生品。美元霸权还在，中国就无法在这一领域取得重大突破。当且仅当EUV光刻机所需的基础配件能够自由进口到中国的时候，中国才有可能在这个领域有突破。

      最后，我再强调一个概念！可以商用化的产品跟实验室里能够实现之间差了十万八千里！实验室里实现的意思是不考虑成本，不考虑稳定性，能够有那么一次或者两次做成。

      商用产品的概念是：稳定、高效、可控、能赚钱！就EUV光刻机来说，中国做得最好的大概是长春光机所，也就是搭建了一套实验室的EUV光源设备，而且从技术的实现来看，他们选择了另外一条技术路线，EUV输出的可控性必然不足，商业化依然有巨大瓶颈。至于ASML现阶段的技术，就算中国造出一模一样的东西来，还有专利的麻烦在那里，要规避这一堆专利而商业化几乎做不到。

这东西跟航母、战斗机不一样。航母，战斗机你就算仿造别人的也没法起诉侵犯专利。光刻机你要是用同样的原理，光是赔专利侵权就要倾家荡产。

      总之呢，如果技术不革新，这一块儿中国想要后来者居上几乎做不到。至于台积电，它是使用EUV光刻机的厂商，如果大陆都没有EUV光刻机可用，谈什么超越台积电呢？

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      最近“光刻机”成了国内的热词，也在中国人的心里激起了阵痛。光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，可以在小小的硅片上集成数十亿个晶体管。生产高端手机用到的芯片就需要用到先进的光刻机，国内的光刻机只能量产14纳米工艺的芯片，7纳米、5纳米工艺的芯片对国内来说还是遥不可及。芯片的生产由外国人控制，国内手机产业的命脉就握在了外国人的手中。

有人也许想不明白，中国在六十年代就有了原子弹、氢弹，为何一个光刻机还要由外国人把控？原子弹、氢弹爆炸腾空而起的蘑菇云能够让人感到强烈的震撼，能够给人吐气扬眉的畅快。核武器对中国来说固然重要，不过要认识到在核武器的研制过程中有浓重的政治参与色彩。优质汽车发动机、数码单反、光刻机等的发展没有享受过那样的待遇。

     上世纪70年代末，一贫如洗的中国要建对撞机。一个连温饱都没有解决好的国家要建对撞机，这其中就有政治因素。或许在一些人看起来一个泱泱大国应该有一个大的科学工程。当时国内征求杨振宁的意见时，杨振宁坚决反对中国建造对撞机。因为他知道对撞机是个烧钱的无底洞，更何况那时高能物理就已经没有太多前途。杨振宁那时就建议中国应该加大半导体方面的研究，这样的研究花钱不多，而且还能很快创造出应用价值。

尽管当时杨振宁反对中国建造对撞机，可中国还是建成了北京正负电子对撞机。杨振宁的反对意见也得到了考虑，对撞机的规模比之前规划的小了一些。北京正负电子对撞机在之后也经历过升级，可上面出的成果与投入严重不成比例，很多业内人士认为北京正负电子对撞机上出的成果几乎为零。

      对撞机的建造及运转势必影响到其他研究领域，经费被对撞机拿走了大头，其他领域就要勒紧裤腰带过日子。如果当时中国拿出更多的资源投入到半导体方面的研究中，今天会是什么样子？我们不能想象，但我们可以问自己几个问题：我们今天的光刻机技术还会比国外的先进水平落后十几年吗？还会为今天被外国人扼住脖颈捶胸顿足吗？

       今天的中国似乎又遇到了同样的问题。国内一些人希望建造长达100千米的超大型对撞机，杨振宁依然持反对意见，反对的意见依然包括对撞机是个烧钱的无底洞，建造对撞机会挤占其他研究领域的经费。今天国内一些手机制造商正因遭到来自国外的制裁相继陷入困境。中国有好看的面子工程，中国也需要有坚实的科技文化底蕴。经验和教训已经给我们上了好几堂课。